Silīcija vafeļu disks

Silīcija vafeļu disks

Mūsu augstākās kvalitātes pusvadītāju silīcija diski ir izstrādāti tā, lai nodrošinātu izcilu izmēru stabilitāti visprasīgākajām liela apjoma ražošanas vidēm. Optimizēts visam50 mm līdz 300 mm (2–12 collas)ražošanas spektru, šie substrāti darbojas kā augstas{0}}integritātes platforma nākamās-paaudzes elektroniskajiem komponentiem.

Galvenās tehniskās priekšrocības:

Ģeometriskā precizitāte:Mūsu diski ir paredzēti precīziem un atkārtojamiem rezultātiem, un tiem ir stingri kontrolēta kopējā biezuma variācija (TTV) un deformācija, kas nodrošina perfektu piemērotību automatizētai apstrādei un augstas{0}}izšķirtspējas litogrāfijai.

Termiskā noturība:Izstrādāts, lai saglabātu struktūras integritāti un režģa nevainojamību augstās -temperatūras procesos, piemēram, termiskā oksidēšana, difūzija un ātrā termiskā atkausēšana (RTA).

Konsekvents materiāla profils:Īpaši vienveidīgā kristāla struktūra nodrošina stabilu elektrisko un mehānisko veiktspēju katrā sērijā, samazinot procesa novirzi sarežģītu ierīču ražošanā.

Populāri tagi: silīcija vafeļu disks, Ķīnas silīcija vafeļu disku ražotāji, piegādātāji, rūpnīca